Dolar 32,5664
Euro 35,0373
Altın 2.434,83
BİST 10.446,24
Adana Adıyaman Afyon Ağrı Aksaray Amasya Ankara Antalya Ardahan Artvin Aydın Balıkesir Bartın Batman Bayburt Bilecik Bingöl Bitlis Bolu Burdur Bursa Çanakkale Çankırı Çorum Denizli Diyarbakır Düzce Edirne Elazığ Erzincan Erzurum Eskişehir Gaziantep Giresun Gümüşhane Hakkari Hatay Iğdır Isparta İstanbul İzmir K.Maraş Karabük Karaman Kars Kastamonu Kayseri Kırıkkale Kırklareli Kırşehir Kilis Kocaeli Konya Kütahya Malatya Manisa Mardin Mersin Muğla Muş Nevşehir Niğde Ordu Osmaniye Rize Sakarya Samsun Siirt Sinop Sivas Şanlıurfa Şırnak Tekirdağ Tokat Trabzon Tunceli Uşak Van Yalova Yozgat Zonguldak
İstanbul 30°C
Az Bulutlu
İstanbul
30°C
Az Bulutlu
Çar 28°C
Per 28°C
Cum 29°C
Cts 30°C

Intel, son teknoloji üretim için gaza bastı!

Intel, ASML’den satın aldığı yüksek-NA EUV litografi araçları ile sektörde öncü bir konuma geçebilir. İşte detaylar…

Intel, son teknoloji üretim için gaza bastı!
25 Aralık 2023 15:26
53

Intel’in, yüksek çözünürlüklü litografi araçlarını satın aldığına dair bir rapor ortaya çıktı. Şirket, gelecek yıl ASML tarafından üretilen 10 Yüksek-NA EUV’nun altısını satın alacak. Ayrıca Samsung da ASML’den yüksek-NA EUV araçları almak için bir anlaşma yapmış durumda. İşte detaylar…

Intel, ASML’nin son teknoloji cihazının ilk müşterisi olarak rakiplerinin önüne geçebilir!

TrendForce’un raporuna göre Intel, bu yıl ASML’den 0.55 sayısal açıklığa sahip bir ekstrem ultraviyole (EUV) litografi aracını alacak ve 2024’te şirketin çoğunu alacak. Bu, Intel’in Twinscan EXE makinelerini yoğun bir şekilde kullanma eğiliminde olduğunu gösteriyor.

Intel, bu yıl ASML’den Twinscan EXE:5000 pilot tarayıcısını alacak ve bunu yüksek-NA EUV litografisinin ticari üretiminde nasıl daha iyi kullanacaklarını öğrenmek için kullanacak. Başlangıçta, bu litografi teknolojisini en küçük detayları yazdırmak için Intel 18A (18 angstrom, 1.8 nm sınıfı) üretim düğümünde kullanmayı planlıyordu. Ancak yüksek-NA araçlar beklenenden daha geç geldiği için EUV çoklu desenleme yöntemine geçiş yaptı.

Şirketin gelecek yıl elde edeceği altı ek yüksek-NA EUV litografi aracı (Twinscan EXE:5200), 2025 ve sonrasında Intel’in 18A veya diğer işlem teknolojileri ile çiplerin seri üretimi için kullanılacak. Ayrıca, Twinscan EXE’nin kullanımı, şirketin üretim döngülerini olumlu etkileyebilir.

Ancak bu makinelerin maliyetinin ASML’nin zaten 200 milyon doları aşan Twinscan NXE:3600D veya NXE:3800E makinelerinden daha pahalı olacağı düşünüldüğünde, olumlu bir etkisi olup olmayacağı belirsiz.

Intel, yüksek-NA öğrenmeye öncülük ederek rakiplerine karşı avantaj elde edecek. Bunun yanı sıra, yüksek-NA araçlarla yüksek hacimli üretime geçen ilk şirket olması muhtemel olduğundan, fabrika araç ekosistemi de bu gereksinimlere uyacak ve muhtemelen endüstri standartlarına dönüşecek.

Bu, Intel’e TSMC ve Samsung Foundry gibi rakiplerine karşı stratejik avantajlar sağlayabilir. Ancak Intel’in rakipleri de yüksek-NA araçları elde etmeye çalışıyor. Bu konuda Samsung Electronics’ın başkan yardımcısı Kyung Kye-hyun, şirketin ASML ile yüksek-NA araçları tedarik etme konusunda bir anlaşma yaptığını belirtti ve şunları söyledi:

“Samsung, yüksek-NA ekipman teknolojisi konusunda önceliği sağladı. Bu, DRAM bellek çipleri ve mantık çipleri üretimimizde yüksek-NA teknolojisinin kullanımını uzun vadeli olarak optimize etme fırsatı yarattığımıza inanıyorum.”

Peki siz bu konu hakkında neler düşünüyorsunuz? Görüşlerinizi aşağıdaki Yorumlar kısmından bizimle paylaşabilirsiniz.

YORUMLAR

Henüz yorum yapılmamış. İlk yorumu yukarıdaki form aracılığıyla siz yapabilirsiniz.